Мы в соцсетях

Hardnews

Intel раскрыла подробности техпроцесса 10 нм

Опубликовано

,

Во время своей конференции в Пекине, компания Intel обнародовала много новой информации о своих будущих продуктах и технологиях, в том числе о техпроцессе 10 нм. По их мнению, новые решения опережает конкурирующие проекты, а изменения протекают в соответствии с законом Мура.

Во время презентации Intel показал, что его предстоящий технологический процесс 10 нм позволяет размещение до 100,8 Метро/мм2 (млн. транзисторов на мм2), что означает рост на 2,7 x по сравнению с 14 нм техпроцессом (37,5 Метро/мм2). Более того, плотность в два раза выше относительно 10 нм у Samsung и TSMC. Intel будет предлагать своим партнерам доступ к двум типам решений, основанным на новой литографии – 10GP (general purpose – общего назначения) и 10HPM (high performance mobile – для мобильных чипов высокой производительности).
\"Intel\"Intel\"Intel
Компания гарантирует, что новая технология обеспечивает на 25% более высокую производительность и на 45% меньше потребление энергии по отношению к 14 нм техпроцессу. Intel в дальнейшем планирует ввести усиленную литографию 10++, которая позволит увеличить производительность еще на 10 процентов и снизит аппетит на электричество на 30 процентов.\"Intel\"Intel\"IntelИнтересный вопросом было предложение о нормализации системы измерения размера технологических процессов. Представители Intel утверждают, что подавляющее большинство обозначений литографии имеет только маркетинговое значение и очень трудно сравнивать между собой решения разных производителей.

Обсуждение

Получать важные и интересные новости из мира высоких технологий прямо на Email.

Реклама

Обсуждения

Тренды недели

© 2017 TehnoFan.com Все права защищены

Все права на материалы, опубликованные на сайте, принадлежат редакции и охраняются в соответствии с законодательством Украины. Использование материалов, опубликованных на сайте допускается только с обязательной прямой гиперссылкой на страницу, с которой материал заимствован. Гиперссылка должна размещаться непосредственно в тексте, воспроизводящем оригинальный материал сайта, до или после цитируемого блока.